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短沟效应

 随着半导体工艺水平的提高,器件的尺寸越来越小,目前的沟道最小长度已经小于90nm,沟道长度为0.25ttm、0.18ttm的工艺已经相当普遍。减小器件尺寸可以提高电路的速度和集成度,但同时也给器件的特性带来了影响,通常称为短沟效应。短沟效应主要包括阈值电压的变化、载流子迁移率的下降及速度饱和、热电子效应等。此外,沟道长度调制效应对于短沟器件来说也变得更加明显。这些效应对于模拟电路来说都是十分敏感的。

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  • 更新时间: 2016-10-09

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